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扬州国兴专业解说等离子Plasma相关常识/优势/原理
作者:原创 浏览:3932 发布日期: 2021-04-09
信息摘要:
​使用等离子清洗机【等离子Plasma】有哪些优势?1.等离子清洗机可以不使用有害的溶剂,所以清洗以后不会产生有害物质,这样就有效的解决了环保的问题,等离子设备它可以被列为绿色清洗的行列了。2.在通过等离子设备清洗过后的产品由于它本身就已经很干燥了,就不需要经过干燥处理就可以进行下一道工序。3.等离子清洗机是用无线电波范围的高频产生的等离子体,它和我们通常所接触到的激光等直射光线是不一样的

使用等离子清洗机【等离子Plasma】有哪些优势?
1.等离子清洗机可以不使用有害的溶剂,所以清洗以后不会产生有害物质,这样就有效的解决了环保的问题,等离子设备它可以被列为绿色清洗的行列了。
2.在通过等离子设备清洗过后的产品由于它本身就已经很干燥了,就不需要经过干燥处理就可以进行下一道工序。
3.等离子清洗机是用无线电波范围的高频产生的等离子体,它和我们通常所接触到的激光等直射光线是不一样的,由于它的方向性不够强,所以可以深入到物体的微细孔眼和凹陷的地方完成清洗任务,所以不用担心被清洗处理的物件形状和角度的问题,当然使用真空等离子设备更容易达到更好的效果。
4.等离子清洗机的清洗流程几分钟之内就可以完成,它具有高效率,高速度的清洗特点。
5.等离子设备它可以不分处理的对象,针对不同的基材,不同的形状,不管是半导体,还是氧化物,以及高分子材料等都可以进行等离子表面处理。它还可以有选择性的材料进行整体,或者复杂的结构,也可以实现局部结构等清洗处理。

等离子Plasma

等离子设备和湿洗设备的清洗对比
【等离子Plasma】首先我们来了解一下等离子设备的清洗优势,等离子表面处理机设备的清洗优势是对象通过清洗后的物品是干燥的,那么它就不用再去进行干燥处理了,就可以进行下一道工序。
还可以将我们的等离子设备工艺设计为在线处理的清洗方式,既节约了成本,又省时省力,提高了生产的效率。
等离子设备清洗的第二个好处就是它是没有污染的,没有有害的物质的,也避免了很多像湿法清洗比较容易产生的问题。
等离子表面处理机清洗可以使清洗的效率有所提高,达到表面改性,提升产品性能和良率的作用,通常来说,一般的工件都是几分钟就可以清洗完成的,没有任何的繁琐的工艺,只要会操作等离子设备就可以了。
等离子体清洗【等离子Plasma】在应用中需要汪意一些制约因素,主要表现在以下几点:   
不能用这种方法除去物体表面的切削粉末,这点在清洗金属表面油垢时表现尤为明显。  
实践证明不能用它清楚很厚的油污,虽然用等离子体清洗少量附着在物体表面的油垢有很好的效果,但是对厚油垢的清除效果往往不佳,一方面用它清除油膜,必须延长处理间,使清洗的成本大大提高,另一方面有可能是它在与厚油垢相互接触的过程中,引发油垢分子结构中的不饱和键发生了聚合,偶联等复杂反应而形成较坚硬的树脂化立体网状结构有关。一旦形成这类树脂膜他将很难被清除。因此通常只用等离子体清洗厚度在几个微米以下的油污。
等离子体发生器【等离子Plasma】的放电原理
利用外加电场或高频感应电场使气体导电,称为气体放电。气体放电是产生等离子体的重要手段之一。被外加电场加速的部分电离气体中的电子与中性分子碰撞,把从电场得到的能量传给气体。电子与中性分子的弹性碰撞导致分子动能增加,表现为温度升高;而非弹性碰撞则导致激发(分子或原子中的电子由低能级跃迁到高能级)、离解(分子分解为原子)或电离(分子或原子的外层电子由束缚态变为自由电子)。高温气体通过传导、对流和辐射把能量传给周围环境,在定常条件下,给定容积中的输入能量和损失能量相等。电子和重粒子(离子、分子和原子)间能量传递的速率与碰撞频率(单位时间内碰撞的次数)成正比。

扬州国兴专业解说等离子Plasma相关常识/优势/原理

在稠密气体中,碰撞频繁,两类粒子的平均动能(即温度)很容易达到平衡,因此电子温度和气体温度大致相等,这是气压在一个大气压以上时的通常情况,一般称为热等离子体或平衡等离子体。在低气压条件下,碰撞很少,电子从电场得到的能量不容易传给重粒子,此时电子温度高于气体温度,通常称为冷等离子体或非平衡等离子体。
等离子体处理【等离子Plasma】的原理:等离子体是物质的一种存在状态,通常物质以固态、液态、气态三种状态存在,但在一些特殊的情况下有第四中状态存在,如地球大气中电离层中的物质。等离子体状态中存在下列物质:处于高速运动状态的电子;处于激活状态的中性原子、分子、原子团(自由基);离子化的原子、分子;未反应的分子、原子等,但物质在总体上仍保持电中性状态。等离子处理技术是等离子体特殊性质的具体应用:等离子处理系统产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,受电场作用,它们发生碰撞而形成等离子体,这些离子的活性很高,其能量足以破坏几乎所有的化学键,在任何暴露的表面引起化学反应,不同气体的等离子体具有不同的化学性能,如氧气的等离子体具有很高的氧化性,能氧化光刻胶反应生成气体,从而达到清洗的效果;腐蚀性气体的等离子体具有很好的各向异性,这样就能满足刻蚀的需要。利用等离子处理时会发出辉光,故称之为辉光放电处理。等离子体处理的机理,主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

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