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GX-WB02 Atmospheric Pressure Microwave Plasma

GX-WB02 Atmospheric Pressure Microwave Plasma

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一、主要设备(微波常压低温等离子*2)

GX-WB02常压微波等离子

二、产线规划:

GX-WB02常压微波等离子

图片仅供参考


三:规格参数及功能预估:

 

设备尺寸:长1000mm*宽500mm*高800mm(输送面高度)

 

输送有效宽度:400mm

 

输送方式:滚轮输送、可调速(1-4m/min)

 

功能1:等离子喷枪上下、左右可调节距离 以应对不同尺寸产品

 

功能2:输送滚轮上方设导向档板(将产品导入喷枪正下方)

 

单工位上下面同时处理、(上下各一组喷枪)

 

配置2台微波低温常压氮气等离子设备

  

产能预估:6800片/日(按4M/MIN速度、工件厂280mm、无间断、双面同时、每天8H工作计算)

 

处理效果:达因值达到40以上

 

时效性:≥10天(电泳漆面)

 

设备功率:1000w (220V 2相 有效接地)

 

工艺气体需求:干燥洁净氮气(99.99%)60L/min

         




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