揚州國興專業解說等離子Plasma相關常識/優勢/原理

发布日期:2021-04-09  浏览:3821
扬州国兴专业解说等离子Plasma相关常识/优势/原理

使用等離子清洗機【等離子Plasma】有哪些優勢?
1.等離子清洗機可以不使用有害的溶劑,所以清洗以後不會產生有害物質,這樣就有效的解決了環保的問題,等離子設備它可以被列為綠色清洗的行列了。
2.在通過等離子設備清洗過後的產品由於它本身就已經很乾燥了,就不需要經過乾燥處理就可以進行下一道工序。
3.等離子清洗機是用無線電波範圍的高頻產生的等離子體,它和我們通常所接觸到的鐳射等直射光線是不一樣的,由於它的方向性不夠強,所以可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的地方完成清洗任務,所以不用擔心被清洗處理的物件形狀和角度的問題,當然使用真空等離子設備更容易達到更好的效果。
4.等離子清洗機的清洗流程幾分鐘之內就可以完成,它具有高效率,高速度的清洗特點。
5.等離子設備它可以不分處理的對象,針對不同的基材,不同的形狀,不管是半導體,還是氧化物,以及高分子材料等都可以進行等離子表面處理。它還可以有選擇性的材料進行整體,或者複雜的結構,也可以實現局部結構等清洗處理。

等离子Plasma

等離子設備和濕洗設備的清洗對比:
【等離子Plasma】首先我們來瞭解一下等離子設備的清洗優勢,等離子表面處理機設備的清洗優勢是對象通過清洗後的物品是乾燥的,那麼它就不用再去進行乾燥處理了,就可以進行下一道工序。
還可以將我們的等離子設備工藝設計為線上處理的清洗方式,既節約了成本,又省時省力,提高了生產的效率。
等離子設備清洗的第二個好處就是它是沒有污染的,沒有有害的物質的,也避免了很多像濕法清洗比較容易產生的問題。
等離子表面處理機清洗可以使清洗的效率有所提高,達到表面改性,提升產品性能和良率的作用,通常來說,一般的工件都是幾分鐘就可以清洗完成的,沒有任何的繁瑣的工藝,只要會操作等離子設備就可以了。
等離子體清洗【等離子Plasma】在應用中需要汪意一些制約因素,主要表現在以下幾點:   
不能用這種方法除去物體表面的切削粉末,這點在清洗金屬表面油垢時表現尤為明顯。  
實踐證明不能用它清楚很厚的油污,雖然用等離子體清洗少量附著在物體表面的油垢有很好的效果,但是對厚油垢的清除效果往往不佳,一方面用它清除油膜,必須延長處理間,使清洗的成本大大提高,另一方面有可能是它在與厚油垢相互接觸的過程中,引發油垢分子結構中的不飽和鍵發生了聚合,偶聯等複雜反應而形成較堅硬的樹脂化立體網狀結構有關。一旦形成這類樹脂膜他將很難被清除。因此通常只用等離子體清洗厚度在幾個微米以下的油污。
等離子體發生器【等離子Plasma】的放電原理:
利用外加電場或高頻感應電場使氣體導電,稱為氣體放電。氣體放電是產生等離子體的重要手段之一。被外加電場加速的部分電離氣體中的電子與中性分子碰撞,把從電場得到的能量傳給氣體。電子與中性分子的彈性碰撞導致分子動能增加,表現為溫度升高;而非彈性碰撞則導致激發(分子或原子中的電子由低能級躍遷到高能級)、離解(分子分解為原子)或電離(分子或原子的外層電子由束縛態變為自由電子)。高溫氣體通過傳導、對流和輻射把能量傳給周圍環境,在定常條件下,給定容積中的輸入能量和損失能量相等。電子和重粒子(離子、分子和原子)間能量傳遞的速率與碰撞頻率(單位時間內碰撞的次數)成正比。

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在稠密氣體中,碰撞頻繁,兩類粒子的平均動能(即溫度)很容易達到平衡,因此電子溫度和氣體溫度大致相等,這是氣壓在一個大氣壓以上時的通常情況,一般稱為熱等離子體或平衡等離子體。在低氣壓條件下,碰撞很少,電子從電場得到的能量不容易傳給重粒子,此時電子溫度高於氣體溫度,通常稱為冷等離子體或非平衡等離子體。
等離子體處理【等離子Plasma】的原理:等離子體是物質的一種存在狀態,通常物質以固態、液態、氣態三種狀態存在,但在一些特殊的情況下有第四中狀態存在,如地球大氣中電離層中的物質。等離子體狀態中存在下列物質:處於高速運動狀態的電子;處於啟動狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等,但物質在總體上仍保持電中性狀態。等離子處理技術是等離子體特殊性質的具體應用:等離子處理系統產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電場,用真空泵實現一定的真空度,隨著氣體愈來愈稀薄,分子間距及分子或離子的自由運動距離也愈來愈長,受電場作用,它們發生碰撞而形成等離子體,這些離子的活性很高,其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵,在任何暴露的表面引起化學反應,不同氣體的等離子體具有不同的化學性能,如氧氣的等離子體具有很高的氧化性,能氧化光刻膠反應生成氣體,從而達到清洗的效果;腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性,這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時會發出輝光,故稱之為輝光放電處理。等離子體處理的機理,主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看,等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘餘物脫離表面。等離子體清洗技術的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚醯亞胺、聚氯乙烷、環氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,並可實現整體和局部以及複雜結構的清洗。